2020-2025年离心机市场投资前景分析及供需格局研究预测报告
据国外媒体报道，光刻机巨头荷兰阿斯麦(ASML)首席财务官近日在财报视频会议上表示，向中国客户出口DUV光刻机已经无需申请出口许可证。由于光刻机的稀缺性和高工艺要求，近年来A股关于光刻机题材的炒作升温。据不完全统计，目前A股光刻机概念股44只，但都是部分业务涉及到光刻机领域。
二级市场表现来看，今年以来已有11只光刻机概念股涨幅翻倍，不过与年内高点相比，光刻机概念股整体回调力度不小。据统计，11股最新收盘价较年内高点回调30%以上。
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。镀膜光刻机是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。
根据中研普华产业研究院出版的《2020-2025年中国光刻机市场发展现状调查及供需格局分析预测报告》分析显示：
主要的光刻机生产厂家包括：ASML、尼康、佳能、欧泰克、上海微电子装备、SUSS、ABM Inc.等。
高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国)，日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。
生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目"超分辨光刻装备研制"通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
随着光刻机行业竞争的不断加剧，大型企业间并购整合与资本运作日趋频繁，国内外优秀的光刻机企业愈来愈重视对行业市场的分析研究，特别是对当前市场环境和客户需求趋势变化的深入研究，以期提前占领市场，取得先发优势。中研普华利用多种独创的信息处理技术，对光刻机行业市场海量的数据进行采集、整理、加工、分析、传递，最大限度地降低客户投资风险与经营成本，把握投资机遇，提高企业竞争力。
欲了解关于光刻机行业具体详情可以点击查看中研普华研究报告《2020-2025年中国光刻机市场发展现状调查及供需格局分析预测报告》。
2020-2025年离心机市场投资前景分析及供需格局研究预测报告
