光刻机行业现状分析 光刻机国产化步伐加速

光刻机行业现状分析

光刻技术是指在特定波长的光照作用下，借助光刻胶将掩膜版上的图形转移到基片上的技术，其中光刻机是整个光刻工艺乃至整个半导体制造工艺中最核心的设备。

光刻机的生产制造极为复杂，从产业链来看，上游产业链主要包括测量台与曝光台(双工件台)、激光器、光速矫正器、能量控制器、光速形状设置、遮光器、能量探测器、掩膜版、掩膜台、物镜、内部封闭框架和减震器等组件。上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。光刻机行业的下游主要是圆晶代工企业，下游主要决定了光刻机市场的需求。

目前，全球光刻机市场的集中度极高，前三大厂商的市场份额占比达90%以上。数据显示，2015-2020年，全球光刻机销售量总体增长，2020年达413台，同比增长16.7%。

光刻机随着光刻技术的更迭，已从最初的g-line，i-line历经KrF、ArF发展到了如今的EUV。2020年，全球光刻机销量仍以中低端产品(KrF、i-Line)为主，合计达264台，占比约65%;而在高端光刻机-EUV的销量为31台，占比约19%。

EUV高端光刻机制造技术高度复杂，光学镜头、光源设备、是最为核心的。高精密光学镜片是光刻机核心部件之一，高数值孔径的镜头决定光刻机分辨率以及值误差能力，EUV极紫外光刻机唯一可使用的镜头由卡尔蔡司生产;高性能光刻机需要体积小、功率高和稳定的光源，主流EUV光源为激光等离子光源(LPP)，目前只有美国厂商Cymer和日本厂商Gigaphoton才能够生产。但是这些所有的核心部件皆对中国禁运。受制于该技术的高壁垒，光刻机成为中国半导体设备制造的最大短板。短时间内，中国光刻机难以追赶世界光刻机水平。

据中研产业研究院报告《2022-2027年光刻机产业深度调研及未来发展现状趋势预测报告》分析

就整体规模变动而言，2021年前三大阿斯麦、尼康、佳能分别总营收达1076亿元，同比2020年增长8.9%，其中阿斯麦占比超8成。主要增长动力来源于EUV出货带动，随着下游集成电路需求持续复杂和精细，工艺制程愈加接近极限，高端光刻机需求将持续扩张，带动整体光刻机营收上升。数据显示，2021年阿斯麦营收来源中中国超百亿元，与国内晶圆产能扩张符合。

ASML垄断全球光刻机市场。光刻机市场集中度高，ASML、Nikon、Canon市场占有率超过90%，其中ASML由于其技术领先，垄断了EUV光刻机。就三大企业整体市场份额占比而言，独占79.4%的市场份额，Nikon与Canon分别占据10.4%和10.2%的市场份额，佳能相较2020年上升主要原因是line光刻机出货量增长较大，而尼康近两年光刻机销量持续下降。

光刻机国产化步伐加速

从政策层面来看，半导体行业对资金的需求本来就大，加之光刻机产业不是一场可以速战速决的战争，政府应该保证相关支持政策及资金的持久性与连贯性。除了国家资金外，社会资本对整个半导体产业动向的洞悉会更深入。利用国家大基金等资本的带动作用，引导社会资本深入半导体产业，布局先进技术，更能推动光刻机产业的整体进步。

从产业来看，国内光刻机产业应该促进整个产业链的协调发展，相关生产企业应形成良好的产业分工，从零部件到整机，企业做自己擅长的事情，建立更为紧密的合作关系，加快光刻机产业国产替代进程。

想要了解更多光刻机行业的发展前景，请查阅《2022-2027年光刻机产业深度调研及未来发展现状趋势预测报告》。