光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的混合液体,光刻胶可以通过光化学反应,经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上。
据中研产业研究院报告《2021-2026年光刻胶市场发展现状调查及供需格局分析预测报告》分析
2021年全球晶圆制造材料市场中半导体光刻胶及其配套试剂的总体市场规模占比将达到12.9%,仅次于硅片与电子特气位列第三。预计2021年全球半导体光刻胶市场规模将达到19.8亿美元。预计2022年全球光刻胶市场规模有望达到105亿美元,年均复合增速5%。
伴随着国内晶圆代工产能的不断提升,2025年国内半导体光刻胶市场规模有望达到100亿元,2020-2025年间半导体光刻胶的市场规模复合增速将达到35%,明显高于全球半导体光刻胶市场规模的增速。
半导体光刻胶属于光刻胶高端产品,受技术限制,当前,我国半导体光刻胶需求主要由外资企业来满足,2020年,外资企业的市场份额达71%。从不同光刻胶产品的自给率来看,目前适用于6英寸硅片的g线、i线光刻胶的自给率约为20%,适用于8英寸硅片的KrF光刻胶的自给率不足5%,而适用于12寸硅片的ArF光刻胶基本依靠进口,光刻胶国产化任重道远。
原料是光刻胶产业的重要环节,原料的品质也决定了光刻胶产品品质,主要原料包括树脂、光引发剂、溶剂和单体等。我国对光刻胶及专用化学品的研究起步较晚,但国家层面非常重视,从“六五计划”至今都一直将光刻胶列为国家高新技术计划、国家重大科技项目。尽管取得了一定成果,但技术水平仍与国际水平相差较大,作为原料的主要专用化学品仍然需要依赖进口。
国内光引发剂生产企业经过十多年激烈的市场竞争,集中趋势日益明显,我国光引发剂生产领先企业有久日新材、扬帆新材、强力新材、固润科技、双键化工等,其中久日新材是全国产量最大、品种最齐全的光引发剂生产供应商,光引发剂业务市场占有率约30%。
目前光刻胶领域国产替代趋势正愈演愈烈,除了下游厂商从供应链安全角度扶持国产光刻胶以及国家政策支持等因素外,还有国内外晶圆厂扩产潮带来的需求爆发和认证窗口期。再加之全球光刻胶巨头信越化学受地震影响而减产,断供了部分中小晶圆厂,进一步加剧了半导体光刻胶产品短缺,也为国内光刻胶企业提供了宝贵的替代窗口期。
想要了解更多光刻胶行业的发展前景,请查阅《2021-2026年光刻胶市场发展现状调查及供需格局分析预测报告》。
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