中国PVD行业市场现状调研：阿石创将深入挖掘PVD镀膜材料应用市场

随着沉积方法和技术的提升，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。全球PVD镀膜服务产值规模不断增长，2021年全球PVD镀膜服务产值规模达到43.27亿美元，同比上升6.97%。数据显示，2017至2020年，全球半导体薄膜沉积设备市场规模从125亿美元增长至172亿美元，预计到2025年将达340亿美元左右。

从国内市场来看，2014年我国PVD镀膜服务行业产值为20.18亿元，随着PVD镀膜技术水平的不断提升，下游需求市场稳步发展，至2021年我国PVD镀膜服务产值增长至85.97亿元，2014-2021年期间CAGR为23%。目前全球PVD市场高度垄断，应用材料一家独大，市场份额从2018年的74%持续提升至2020年87%，处于绝对龙头地位。

据中研产业研究院发布的《2020-2025年中国PVD行业市场发展前景预测与投资战略规划研究报告》显示：

物理气相沉积(Physical Vapour Deposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。

PVD技术出现于，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速钢刀具领域的成功应用引起了世界各国制造业的高度重视，人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。

PVD技术是目前主流镀膜方法，其中的溅射工艺在半导体、显示面板应用广泛。PVD技术分为真空蒸镀法、溅镀法和离子镀法。三种方法各有优劣势：真空蒸镀法对于基板材质没有限制;溅镀法薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜好;离子镀法的绕镀能力强，清洗过程简化，但在高功率下影响镀膜质量。不同方法的选择主要取决于产品用途与应用场景。

从上游PVD镀膜材料来看，近年来我国PVD镀膜材料市场规模日益壮大，至2021年突破100亿元，增长至103.6亿元，同比增长9.2%。我国PVD应用广泛，目前，光伏、集成电路、磁性材料领域是最大的需求市场，2021年的应用占比分别为27.36%、23.21%、18.21%。

阿石创将深入挖掘PVD镀膜材料应用市场

8月29日晚，阿石创发布2022年上半年业绩。报告期内，公司实现营业收入3.36亿元，同比增长39.41%;归母净利为1210万元，同比增长100.96%;扣非净利889万元，同比大幅攀升142.72%;基本每股收益增长翻倍。

公司一直专注于PVD镀膜材料领域，成立至今，累计服务了全球范围超过400家客户，涵盖光学光通信、平板显示、节能玻璃、LED、光伏等行业，同京东方、群创光电、华星光电、深天马、福耀玻璃、信义玻璃、蓝思科技、水晶光电、舜宇光学、EPSON等数十家知名客户成为战略伙伴，优质的客户资源为公司业绩的持续稳定增长提供了保障。

公司披露，将在下半年深入挖掘PVD镀膜材料下游应用市场，不断拓宽应用领域，并以此作为公司整体的战略任务。目前，公司已经储备锂电池集流体用复合铜箔与复合铝箔项目、PVD工艺制备珠光粉项目等。下半年，公司将加快相关项目的中试线建设，争取年内或明年年初实现送样验证，力争打造新的成长曲线。

欲获取更多行业分析及相关数据可以点击查看中研产业研究院发布的《2020-2025年中国PVD行业市场发展前景预测与投资战略规划研究报告》。