SK海力士斥资280亿元采购光刻机 2021年光刻机市场供需格局分析

目前，SK海力士对英特尔NAND闪存及存储业务的收购仍在不断推进的过程中。 其中，斥资4.8万亿韩元(折合人民币280亿元)采购光刻机的消息格外引人注目。众所周知，随着芯片制程的微缩，高端EUV光刻机成为各大芯片巨头必争的制高点。

SK海力士的芯片制造能力虽然不算出圈，但该公司此举似乎也想要在全球半导体产业垂直分化的大趋势中，尽可能缩减成本保持优势。

光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。镀膜光刻机是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。

主要的光刻机生产厂家包括：ASML、尼康、佳能、欧泰克、上海微电子装备、SUSS、ABM Inc.等。

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国)，日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。

随着光刻机行业竞争的不断加剧，大型企业间并购整合与资本运作日趋频繁，国内外优秀的光刻机企业愈来愈重视对行业市场的分析研究，特别是对当前市场环境和客户需求趋势变化的深入研究，以期提前占领市场，取得先发优势。中研普华利用多种独创的信息处理技术，对光刻机行业市场海量的数据进行采集、整理、加工、分析、传递，最大限度地降低客户投资风险与经营成本，把握投资机遇，提高企业竞争力。

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