掩膜版市场规模 掩膜版发展前景分析

掩膜版，又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。

掩膜上承载着设计图形，光源投过掩膜并将图形投影在光刻胶智商。因此掩膜性能直接决定了光刻工艺的质量。目前制程制程用较为常用的工艺为投影式光刻，掩膜不直接与晶圆表面接触。

据中研产业研究院报告《2021-2025年中国掩膜版行业发展趋势及投资预测报告》分析

掩膜版市场规模

近年来，全球光掩膜版市场发展态势较好，行业规模持续扩大，2019年，全球光掩膜版市场规模达到40亿美元左右，受新冠肺炎疫情的影响，2020年，全球光掩膜版市场规模有所缩减。全球市场中，光掩膜版市场参与者主要集中在美国、日本、韩国等国家中，其中市场占比较高的企业有日本东曹、HOYA、韩国LGMicron、DNP、信越化学、尼康、SKE等。

掩膜版行业分析

电子信息产业是我国国民经济和社会发展的战略性、基础性、先导性产业，而掩膜版行业则是电子信息产业不可缺少的重要组成部分。从产业链来看，掩膜版产业位于电子信息产业的上游，其主导产品掩膜版是下游电子元器件制造商(平板显示、半导体芯片、触控和电路板等行业)生产制造过程中的核心模具，起到桥梁和纽带的作用，电子元器件制造商的产品则广泛应用于消费电子、家电、汽车等电子产品领域。因此，掩膜版行业的发展与其下游电子元器件行业乃至终端电子消费品行业的发展密切相关。下游行业市场规模的不断增长也为本行业提供了更为广阔的市场空间。

掩膜版发展前景分析

随着消费者对显示产品的要求逐步提高，手机、平板电脑等移动终端向着更高清、色彩度更饱和、更轻薄化发展。预计未来显示屏的显示精度将从450PPI(Pixel Per Inch，即每英寸像素)逐步提高到650PPI以上，对平板显示掩膜版的半导体层、光刻分辨率、最小过孔、CD均匀性、套合精度、缺陷大小、洁净度均提出了更高的技术要求。未来集成电路的制造工艺将进一步精细化，朝5nm-3nm工艺发展，这对与之配套的掩膜版以及半导体芯片封装用掩膜版提出了更高要求，线缝精度要求越来越高。

光掩膜版在可穿戴设备、平板显示、汽车电子、家电等领域应用广泛，近年来，随着下游市场需求不断释放，光掩膜版行业发展持续向好。我国光掩膜版行业起步较晚，高端产品产能不足，因此目前我国光掩膜版市场仍由外资企业占据主导，未来我国光掩膜版行业发展空间广阔。

想要了解更多掩膜版行业的发展前景，请查阅《2021-2025年中国掩膜版行业发展趋势及投资预测报告》。

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