中国电子束曝光系统产量 电子束曝光系统发展前景分析

电子束曝光是用低功率密度的电子束照射电致抗蚀剂，经显影后在抗蚀剂中产生图形的一种微细加工技术。

光刻技术的精度受到光子在波长尺度上的散射影响。使用的光波长越短，光刻能够达到的精度越高。根据德布罗意的物质波理论，电子是一种波长极短的波。这样，电子束曝光的精度可以达到纳米量级，从而为制作纳米线提供了很有用的工具。电子束曝光需要的时间长是它的一个主要缺点。为了解决这个问题，纳米压印术应运而生。

根据中研普华产业研究院发布的《2022年全球与中国电子束曝光系统(EBL)市场深度研究报告》显示：

中国电子束曝光系统产量

随着器件的特征尺寸不断缩小，在掩模版制造中普遍采用电子束曝光和激光光刻设备，在这两类设备中，电子束设备在性能和数量上均占优势。最先进的激光制版系统，其束斑直径在0.2μm左右，可以用来制作0.18μm，0.15μm生产线的掩模版，但对特征尺寸更小的器件的掩模，只能用电子束曝光系统来制作，特别是用于光学光刻中的铭版制造。

据不完全统计，截至2021年底，全球电子束曝光系统产能约为3564台，产量约为3411台，产能利用率约为95.71%。

近年来，中国电子束曝光系统的产量和产值都呈现出较快的增长态势。据统计，2021年，中国电子束曝光系统的产量约为864台，同比增长12.06%;产值约为6.82亿美元，同比增长18.40%。

2021年美国电子束曝光系统的产量约为268台，较2020年增长了5.10%;产值约为2.29亿美元，较2020年增长了6.02%。

据统计，2021年欧洲电子束曝光系统的产量约为1364台，较2020年增长了6.98%;产值约为14.14亿美元，较2020年增长了12.67%。

中国电子束曝光系统发展前景分析

随着器件的特征尺寸不断缩小，在掩模版制造中普遍采用电子束曝光和激光光刻设备，在这两类设备中，电子束设备在性能和数量上均占优势。最先进的激光制版系统，其束斑直径在0.2μm左右，可以用来制作0.18μm，0.15μm生产线的掩模版，但对特征尺寸更小的器件的掩模，只能用电子束曝光系统来制作，特别是用于光学光刻中的铭版制造。

这种曝光方式分辨率高、掩膜版制作容易、工艺容限大，而且生产效率高，但由于电子束在光刻胶膜内的散射，使得图案的曝光剂量会受到临近图案曝光剂量的影响(即临近效应)，造成的结果是，显影后，线宽有所变化或图形畸变。虽然如此，限角度投影式电子束光刻仍是最具前景的非光学光刻。

中研普华利用多种独创的信息处理技术，对电子束曝光系统(EBL)行业市场海量的数据进行采集、整理、加工、分析、传递，为客户提供一揽子信息解决方案和咨询服务，最大限度地降低客户投资风险与经营成本，把握投资机遇，提高企业竞争力。

了解更多行业详情，可以点击查阅中研普华产业研究院的《2022年全球与中国电子束曝光系统(EBL)市场深度研究报告》。