光刻机行业市场规模 光刻机行业投资前景分析2023

光刻机作为半导体设备三大件之一，是人类文明智慧的结晶，被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。公开资料显示，光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备，技术含量、价值含量极高。它采用类似照片冲印的技术，把掩模版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，经过十余代的发展迭代，目前最先进光刻机单次曝光可以做到低于5nm的分辨率。

按照用途，光刻机可分为制造芯片用光刻机、封装用光刻机、显示和MEMS(微机电系统)等领域用光刻机三大类。业界通常把集成电路/芯片的制造称为前道工艺，封装称为后道工艺，所以制造芯片用光刻机也被称为前道光刻机，封装用光刻机则被称为后道光刻机。

光刻机主要作用是通过包含器件结构信息的图型化掩膜版及光刻胶，在半导体材料表面形成一定形状的器件结构，前道光刻机和后道光刻机虽然都是光刻机，但工艺、用途不一样，前者用于器件成型，后者做金属电极接触。

根据中研普华产业研究院发布的《2023-2028年光刻机市场发展现状调查及供需格局分析预测报告》显示：

光刻机产业链主要包括上游设备及配套材料、中游光刻机系统集成和生产及下游光刻机应用三大环节，技术极为复杂，涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，部分机型所需的零部件更是多达数十万件，因此光刻机的生产通常涉及上千家供应商。

其中，光刻机上游国内代表企业包括福晶科技、奥普光电、南大光电、容大感光、华润微、精测电子、芯源微、菲利华、清溢光电、茂莱光学、美埃科技等。

光刻机行业市场规模

2021年全球光刻机市场规模为181亿美元，全球光刻机前三大厂商的市场份额占比达90%以上，根据前三大厂商的销售数据显示，2015-2021年,全球光刻机销售量总体增长，2021年达478台。

光刻机市场集中度高，ASML、Nikon、Canon市场占有率超过90%，其中ASML由于其技术领先，垄断了EUV光刻机，独占75%的市场份额，Nikon与Canon分别占据13%和6%的市场份额。ASML的光刻机技术在全球处于绝对领先地位，EUV领域ASML市占率为100%，ArFi、ArF领域市占率分别高达96%、88%。

国内光刻机产业起步较晚，与海外具体差距明显。1977年，清华大学精密仪器系、中科院光电所、中国电子科技集团公司第四十五研究所(简称中电科45所)等先后投入研制光刻机。我国也时隔近十年，研制出了具有一定代表意义的光刻机——接触式光刻机GK-3型半自动光刻机。

光刻机行业投资前景分析2023

半导体是光刻机的主要应用领域之一，中国政府出台一系列政策支持半导体产业，包括资金支持、税收优惠等，刺激了国内半导体制造业的发展，进而推动了光刻机市场规模的上涨。

“十三五”计划推动了我国云计算、物联网、大数据、智能电网、汽车电子、移动智能终端、网络通信等应用的持续落地，带动半导体需求持续释放，是我国半导体产业发展的关键时期。据WSTS统计，2021年中国已成为全球最大和贸易最活跃的半导体市场，市场规模为1,925亿美元，同比增长26.9%，占全球市场三分之一以上。

半导体产业具有周期性波动特征，产能过剩和需求不足会导致光刻机产量下降。而近些年中国光刻机国产化进程加快，尽管中国的光刻机产业取得了一定的发展，但与国际领先水平相比，仍存在一些技术限制，尤其是高端光刻机技术受制于国外供应商。

根据数据显示，2022年中国光刻机产量约为95台，需求量约为652台。光刻机的研发、制造和维护成本较高，特别是高性能光刻机。然而，在市场竞争加剧的情况下，制造商为了降低成本和提高竞争力，不得不考虑降低价格。这导致了市场均价的下降。2022年中国光刻机均价约为2267.2万元/台。

据报道，上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机，预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W光刻机设备。此前，国家知识产权局公布了一项华为新的专利“反射镜、光刻装置及其控制方法”，在极紫外线光刻机核心技术上取得突破性进展。

随着国际形势的不确定性日益增加，国产化成为了核心硬科技发展的必然趋势。光刻机作为现代半导体工业的基础设施，其国产化突破将进一步带动整个产业链的发展，其中上游光学元器件意义重大，市场空间广阔。

光刻机产业的核心在于技术创新，因此，提高研发投入和技术水平是非常关键的。中国光刻机企业应该加强研发投入，不断提高技术水平和创新能力，推动光刻机产业的发展。

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