荷兰光刻机巨头ASML周三发布财报称,第一季度净盈利13.3亿欧元,较上年同期的3.906亿欧元飙升近2.5倍,因全球芯片荒之下其设备需求大幅增长。净营收增长近80%,从上年同期的24.4亿欧元增至43.6亿欧元。毛利率达到53.9%。ASML还表示,预计将提前完成去年1月宣布的60亿欧元股票回购计划,因为目前强劲的现金流将使其在未来几个季度能够大量回购股票。
光刻机又名掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。镀膜光刻机是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。
主要的光刻机生产厂家包括:ASML、尼康、佳能、欧泰克、上海微电子装备、SUSS、ABM Inc.等。
高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国),日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机,形成光刻机产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。

从产业结构来看,随着我国集成电路产业的发展,IC设计、芯片制造和封装测试三个子行业的格局正在不断变化,我国集成电路产业链结构也在不断优化。我国集成电路设计业占我国集成电路产业链的比重一直保持在35%以上,并由2015年的36.7%增长至2019年的40.5%,发展速度总体高于行业平均水平,已成为集成电路各细分行业中占比最高的子行业。
2019年中国集成电路产业销售收入为7562.3亿元,同比增长15.80%,其中集成电路设计业销售收入为3063.5亿元,同比增长21.6%,占总值40.5%;晶圆制造业销售收入为2149.1亿元,同比增长18.20%,占总值的28.40%;封测业销售收入为2349.7亿元,同比增长7.10%,占总值的31.1%。
随着光刻机行业竞争的不断加剧,大型企业间并购整合与资本运作日趋频繁,国内外优秀的光刻机企业愈来愈重视对行业市场的分析研究,特别是对当前市场环境和客户需求趋势变化的深入研究,以期提前占领市场,取得先发优势。中研普华利用多种独创的信息处理技术,对光刻机行业市场海量的数据进行采集、整理、加工、分析、传递,最大限度地降低客户投资风险与经营成本,把握投资机遇,提高企业竞争力。
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