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IC设计厂商称 需求最坏时期已过 市场正逐渐回升中 手机芯片行业市场深度分析

通讯LiBO2023/11/6

手机相关芯片供应链近期迎来一波客户端拉货潮,IC设计厂商直言,需求最坏的时期已过,市场正逐渐回升中;明年在终端生成式AI导入手机市场引爆的换机潮带动下,可望在明年第三季感受到更明显的复苏动能。

二季度全球智能手机芯片出货量下降39%

近期,市场研究机构Counterpoint Research发布了2023年第二季度全球智能手机AP/SoC市场报告。报告显示,2023年Q2联发科依旧位居第一,但优势大为缩小,市场份额30%。高通以29%的份额位居第二。

从出货量角度,Counterpoint Research表示,排名前五家厂商中,仅苹果2023年第二季度AP/SoC出货量出现下滑,另外四家均有所增长。

其中,联发科的增长,主要是由于库存水平下降以及入门级5G智能手机市场竞争加剧,中低端市场新智能手机的推出增加了天玑6000和天玑7000系列的出货量;高通的增长,主要得益于三星Flip和Fold系列折叠手机的推出,以及高通更新的骁龙7 Gen 1、6 Gen 1、4 Gen 1系列产品线的助推。

值得注意的是,紫光展锐是本年度环比增长最快的芯片企业。这是自2021年第三季度市场份额超越三星后,紫光展锐连续第8个季度跃居第四,本季度的市占率突破了历史最高值11%,创造了新的纪录。

据Counterpoint Research分析,2023年第二季度紫光展锐出货量实现了快速增长,2023年下半年,预计随着入门级5G智能手机在拉丁美洲、东南亚、中东非和欧洲等地区的渗透率提高,紫光展锐也将在这些地区获得一定的市场份额。

据中研产业研究院《2023-2028年手机芯片行业市场深度分析及发展策略研究报告》分析:

不过,如果按照收入来看份额,2023年第二季度,高通达到40%位居榜首,苹果为33%,联发科16%,三星7%,展锐为3%。手机AP价格差异之大,可见一斑。

目前,紫光展锐已推出100+ 5G智能终端,消费电子领域,展锐5G芯已被中兴、努比亚、中国电信、海信等品牌手机采用并在全球市场销售,同时,紫光展锐携手合作伙伴开拓了5G学习机、智能眼镜、商用机器人等创新品类。

工业电子领域,展锐5G解决方案已在智慧电力、智慧园区、智慧采矿、智慧医疗、智能制造、金融支付、共享经济、工业物联网等垂直领域商用落地。搭载展锐5G芯片的物联网模组、CPE等产品已通过CE、GCF、FCC等多类海外认证,实现全球成熟量产出货。

手机芯片行业市场深度分析

数据显示,2023年1-6月,国内市场手机总体出货量累计1.30亿部,同比下降4.8%。国际数据公司(IDC)最新数据显示,尽管中国智能手机整体市场持续呈现低迷状态,但高端市场受到的影响较小。

今年二季度,中国售价在600美元以上的高端手机占市场的份额达到23.1%,比2022年同期逆势增长3.1个百分点。这是自2022年初以来,智能手机市场首次释放出的积极信号。

手机芯片行业发展与智能手机息息相关。5G商用已超过3年,手机芯片行业格局保持稳定,高通、联发科、紫光展锐在公开市场稳居前三且占据大多数份额。

但是,大型手机厂商追随苹果步伐,仍然在不断尝试自研芯片,例如电源管理芯片、人工智能芯片,今后有望迈向AP乃至基带、SoC。在低端手机芯片领域,也出现了瓴盛科技、ASR等一些挑战者。

由于5G技术复杂度的大幅提升,在同等工艺水平下,芯片的尺寸和功耗都会远超4G。为了满足5G不断增强的技术能力及终端应用需求,5G芯片设计企业不断追求极致性能,驱动制造企业不断突破芯片工艺。

受5G手机芯片用量大幅提升和关键厂商大幅备货影响,芯片出现明显供不应求,今年受汽车等行业复苏的推动,部分下游仍在持续追单,导致供不应求进一步加剧。

为抢占市场份额,不少手机厂商加大了手机芯片囤货量。Gartner最新数据显示,2020年中国采购的芯片金额高达3500亿美元,占据了全球芯片市场近半份额。

不少手机厂商已通过“投资+自研/合作”加码芯片投入。继自研基带芯片后,苹果又开始了自研射频芯片。三星更是全力瞄准中国芯片市场,三星与vivo联手推出一款5nm处理器。

国内市场,华为早在自研芯片之路上一路狂奔,推出的麒麟、鲲鹏、巴龙等多个系列芯片产品,进入智能手机、安防监控、智慧屏等多个领域。

手机芯片行业研究报告主要分析了手机芯片行业的市场规模、手机芯片市场供需求状况、手机芯片市场竞争状况和手机芯片主要企业经营情况、手机芯片市场主要企业的市场占有率,同时对手机芯片行业的未来发展做出科学的预测。

手机芯片行业研究报告可以帮助投资者合理分析行业的市场现状,为投资者进行投资作出行业前景预判,挖掘投资价值,同时提出行业投资策略、生产策略、营销策略等方面的建议。

想要了解更多手机芯片行业详情分析,可以点击查看中研普华研究报告《2023-2028年手机芯片行业市场深度分析及发展策略研究报告》。我们的报告包含大量的数据、深入分析、专业方法和价值洞察,可以帮助您更好地了解行业的趋势、风险和机遇。在未来的竞争中拥有正确的洞察力,就有可能在适当的时间和地点获得领先优势。

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手机芯片行业市场深度分析及发展策略研究报告

第三方软件行业研究报告

第三方软件研究报告对第三方软件行业研究的内容和方法进行全面的阐述和论证,对研究过程中所获取的第三方软件资料进行全面系统的整理和分析,通过图表、统计结果及文献资料,或以纵向的发展过程,或横向类别分析提出论点、分析论据,进行论证。第三方软件报告绝对如实地反映客观情况,叙述、说明、推断、引用均恰如其分。文字、用词应力求准确。研究报告的文字也简单、明了、通顺、流畅,既明白如话,又把研究的效果准确地、科学地表达出来。第三方软件研究报告以行业为研究对象,并基于行业的现状,行业经济运行数据,行业供需现状,行业竞争格局,重点企业经营分析,行业产业链分析,市场集中度等现实指标,分析预测行业的发展前景和投资价值。通过最深入的数据挖掘,对行业进行严谨分析,从多个角度去评估企业市场地位,准确挖掘企业的成长性,已经为众多企业带来了最专业的研究和最有价值的咨询服务过程。 本研究咨询报告由中研普华咨询公司领衔撰写,在大量周密的市场调研基础上,主要依据了国家统计局、国家商务部、国家发改委、国家经济信息中心、国务院发展研究中心、国家海关总署、全国商业信息中心、中国经济景气监测中心、中国行业研究网以及国内外多种相关报刊杂志媒体提供的最新研究资料。本报告对国内外第三方软件行业的发展状况进行了深入透彻地分析,对我国行业市场情况、技术现状、供需形势作了详尽研究,重点分析了国内外重点企业、行业发展趋势以及行业投资情况,报告还对第三方软件下游行业的发展进行了探讨,是第三方软件及相关企业、投资部门、研究机构准确了解目前中国市场发展动态,把握第三方软件行业发展方向,为企业经营决策提供重要参考的依据。

通讯第三方软件2023-10-23

投影设备行业投资战略规划报告

未来30年的经济社会发展将历经两个阶段:第一个阶段,到2035年基本实现社会主义现代化;第二个阶段,到本世纪中叶把我国建成富强民主文明和谐美丽的社会主义现代化强国。作为迈进新时代的第一个五年规划,“十四五”规划将开启未来30年经济社会发展的新征程。“十四五”规划是迈进新时代的第一个五年规划,是未来30年中国经济发展的新起点。本次十九届五中全会上,不同于以往五年规划建议单独的提出与审议,“十四五”规划的建议与2035年远景目标的建议一并被提出,足见“十四五”规划不仅是过往五年规划的延续,还将进一步擘画未来15年乃至30年经济发展的新蓝图。 五年规划是国家对经济社会发展的顶层设计,也是一种纲领性文件。目前中国也是世界上编制五年规划(计划)最多的国家。“十四五”时期是我国经济社会发展的重要历史性窗口期,是全面完成小康社会建设战略目标,向全面实现社会主义现代化迈进承上启下的关键时期,做好“十四五”规划编制工作意义重大、影响深远。中研普华产业研究院在对“十三五”以来社会经济发展形势和政策带动的发展成果作进一步研究,对“十三五”时期投影设备行业发展的问题和难题做深入分析,并从2020年开始全面跟进相关规划的制定和研究工作,为投影设备行业规划指导目标和投影设备发展方向提供有建设性的建议,为投影设备行业发展提供准确的市场分析内容和研究成果。 中研普华通过对投影设备行业长期跟踪监测,分析投影设备行业需求、供给、经营特性、获取能力、产业链和价值链等多方面的内容,整合行业、市场、企业、用户等多层面数据和信息资源,为客户提供深度的投影设备行业研究报告,以专业的研究方法帮助客户深入的了解投影设备行业,发现投资价值和投资机会,规避经营风险,提高管理和运营能力。投影设备行业报告是从事投影设备行业投资之前,对投影设备行业各种相关因素进行具体调查、研究、分析,评估项目可行性、效果效益程度,提出建设性意见建议对策等,是投影设备行业投资决策者和主管机关审批的研究性报告。以阐述对投影设备行业的理论认识为主要内容,重在投影设备行业本质及规律性认识的研究。投影设备行业研究报告持续提供高价值服务,是企业了解各行业当前最新发展动向、把握市场机会、做出正确投资和明确企业发展方向不可多得的精品资料。 本研究咨询报告由中研普华咨询公司领衔撰写,在大量周密的市场调研基础上,主要依据了国家统计局、国家商务部、国家发改委、国务院发展研究中心、中国投影设备行业协会、中研普华产业研究院、全国及海外多种相关报刊杂志以及专业研究机构公布和提供的大量资料,对中国国家 “十三五”经济和社会运行和成果进行分析、产业链上下游行业发展状况、行业供需形势、进出口等进行了深入研究,并重点分析了中国投影设备行业发展状况和特点,以及“十四五”中国投影设备行业将面临的挑战、行业的区域发展状况与竞争格局。报告还对“十四五”全球及中国投影设备行业发展动向和趋势作了详细分析和预测,并对投影设备行业进行了趋向研判,是投影设备经营企业,科研、投资机构等单位准确了解目前投影设备行业发展动态,把握企业定位和发展方向不可多得的精品研究报告。

通讯投影设备2023-10-10

认证服务行业研究报告

认证服务研究报告对行业研究的内容和方法进行全面的阐述和论证,对研究过程中所获取的资料进行全面系统的整理和分析,通过图表、统计结果及文献资料,或以纵向的发展过程,或横向类别分析提出论点、分析论据,进行论证。报告如实地反映客观情况,一切叙述、说明、推断、引用恰如其分,文字、用词表达准确,概念表述科学化。报告对行业相关各种因素进行具体调查、研究、分析,洞察行业今后的发展方向、行业竞争格局的演变趋势以及技术标准、市场规模、潜在问题与行业发展的症结所在,评估行业投资价值、效果效益程度,提出建设性意见建议,为行业投资决策者和企业经营者提供参考依据。 本研究咨询报告由中研普华咨询公司领衔撰写,在大量周密的市场调研基础上,主要依据了国家统计局、国家商务部、国家发改委、国家经济信息中心、国务院发展研究中心、国家海关总署、全国商业信息中心、中国经济景气监测中心、中国行业研究网、全国及海外多种相关报纸杂志的基础信息等公布和提供的大量资料和数据,客观、多角度地对中国认证服务市场进行了分析研究。报告在总结中国认证服务行业发展历程的基础上,结合新时期的各方面因素,对中国认证服务行业的发展趋势给予了细致和审慎的预测论证。报告资料详实,图表丰富,既有深入的分析,又有直观的比较,为认证服务企业在激烈的市场竞争中洞察先机,能准确及时的针对自身环境调整经营策略。

通讯认证服务2023-10-24

警用软件系统行业研究报告

在激烈的市场竞争中,企业及投资者能否做出适时有效的市场决策是制胜的关键。警用软件系统行业研究报告就是为了解行情、分析环境提供依据,是企业了解市场和把握发展方向的重要手段,是辅助企业决策的重要工具。报告根据警用软件系统行业监测统计数据指标体系,研究一定时期内中国警用软件系统行业现状、变化及趋势。警用软件系统报告有助于企业及投资者洞察中国警用软件系统行业市场供需行为,评估中国警用软件系统行业投资价值,为相关企业提供第三方的决策支持。报告内容有助于警用软件系统行业企业、投资者了解市场供需情况,并可以为企业市场推广计划的制定提供第三方决策支持。该报告第一时间为客户提供中国警用软件系统行业年度供求数据分析,报告具有内容翔实、模型准确、分析方法科学等特点。 本研究咨询报告由中研普华咨询公司领衔撰写,在大量周密的市场调研基础上,主要依据了国家统计局、国家商务部、国家发改委、国家经济信息中心、国务院发展研究中心、全国商业信息中心、中国经济景气监测中心、中国行业研究网、全国及海外多种相关报刊杂志的基础信息等公布和提供的大量资料,对国际、国内警用软件系统行业市场发展状况、关联行业发展状况、行业竞争状况、优势企业发展状况、消费现状以及行业营销进行了深入的分析,在总结中国警用软件系统行业发展历程的基础上,结合新时期的各方面因素,对中国警用软件系统行业的发展趋势给予了细致和审慎的预测论证。本报告是警用软件系统行业生产、经营、科研企业及相关研究单位极具参考价值的专业报告。

通讯警用软件系统2023-10-18

门禁系统行业市场调查研究报告

在市场竞争日益激烈、新产品层出不穷的今天,要开发一个新品并能迅速在市场上推广其难度是可想而知的。只有经过科学的市场分析、消费者分析、竞争对手的分析,做到有的放矢,才能使企业开发的新产品立于不败之地。企业在新产品入市前需要对相关产品的市场做整体分析,了解竞争对手的市场状况,了解消费者的消费状况,给新产品找准市场切入点,实现企业预期目标。中研普华通过多个新产品上市调查项目的研究,对新品上市前企业找准市场定位和产品定位有着全新的认识。中研普华针对不同客户需求度身定做不同的研究解决方案。针对普通的研究需求,公司运用国际认可的独创研究产品和统计分析方法论,用来提供广泛的标准化数据和比较数据。如果研究要求比较特殊,我们会针对特定市场专门设计研究解决方案。我们的研究人员熟悉各种访问方法的优缺点和适用的范围,在项目设计中能够灵活选择和组合各种研究方法。此外在长期的实践探索中,我们也总结出各种适合于行业专项研究的模型,这些产品帮助客户综合广泛的信息,加以评估,判断发展机会并计划未来的市场营销活动。

通讯门禁系统2023-10-30

防盗报警系统行业研究报告

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通讯防盗报警系统2023-10-18

电子束曝光系统(EBL)行业研究报告

电子束曝光指使用电子束在表面上制造图样的工艺,是光刻技术的延伸应用。电子束曝光系统即用于实现电子束曝光的系统。电子束曝光指使用电子束在表面上制造图样的工艺,是光刻技术的延伸应用。 光刻技术的精度受到光子在波长尺度上的散射影响。使用的光波长越短,光刻能够达到的精度越高。根据德布罗意的物质波理论,电子是一种波长极短的波。这样,电子束曝光的精度可以达到纳米量级,从而为制作纳米线提供了很有用的工具。电子束曝光需要的时间长是它的一个主要缺点。为了解决这个问题,纳米压印术应运而生。 电子束曝光是用低功率密度的电子束照射电致抗蚀剂,经显影后在抗蚀剂中产生图形的一种微细加工技术。 这种曝光方式分辨率高、掩膜版制作容易、工艺容限大,而且生产效率高,但由于电子束在光刻胶膜内的散射,使得图案的曝光剂量会受到临近图案曝光剂量的影响(即临近效应),造成的结果是,显影后,线宽有所变化或图形畸变。虽然如此,限角度投影式电子束光刻仍是最具前景的非光学光刻。 随着器件的特征尺寸不断缩小,在掩模版制造中普遍采用电子束曝光和激光光刻设备,在这两类设备中,电子束设备在性能和数量上均占优势。最先进的激光制版系统,其束斑直径在0.2μm左右,可以用来制作0.18μm,0.15μm生产线的掩模版,但对特征尺寸更小的器件的掩模,只能用电子束曝光系统来制作,特别是用于光学光刻中的铭版制造。 本研究咨询报告由中研普华咨询公司领衔撰写,在大量周密的市场调研基础上,主要依据了国家统计局、国家商务部、国家发改委、国家经济信息中心、国务院发展研究中心、中国行业研究网、全国及海外多种相关报纸杂志的基础信息等公布和提供的大量资料和数据,客观、多角度地对中国电子束曝光系统市场进行了分析研究。报告在总结中国电子束曝光系统行业发展历程的基础上,结合新时期的各方面因素,对中国电子束曝光系统行业的发展趋势给予了细致和审慎的预测论证。报告资料详实,图表丰富,既有深入的分析,又有直观的比较,为电子束曝光系统企业在激烈的市场竞争中洞察先机,能准确及时的针对自身环境调整经营策略。

通讯电子束曝光系统(EBL)2023-10-07

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